前不久，萧经开企业杭州镓仁半导体凭借在氧化镓技术领域的突破性成就，荣获浙江省半导体行业“创新活力奖”。

浙江省半导体行业协会设立“创新活力奖”，旨在推动浙江省集成电路产业高质量发展，激发企业活力、发展动力和社会创造力，不断提高企业核心竞争力。

从2022年首颗2英寸单晶诞生，到2023年4英寸单晶问世以及2024年6英寸衬底成功制备，再到如今8英寸技术的突破，镓仁半导体仅用两年多时间就刷新了行业纪录。特别是全球首发的8英寸氧化镓晶圆衬底，打破了国际上氧化镓衬底尺寸纪录，使其成为首家掌握该尺寸单晶生长技术的企业。

值得一提的是，镓仁半导体不仅提供氧化镓单晶衬底产品，还全面开放氧化镓专用VB法晶体生长设备及配套工艺包的销售。

2024年9月，镓仁半导体推出了首台自研氧化镓专用晶体生长设备，不仅能够满足氧化镓生长对高温和高氧环境的需求，还能够进行全自动化晶体生长，减少了人工干预，显著提高了生产效率和晶体质量。

该设备通过工艺控制，可获得多种不同晶面的大尺寸单晶，且支持向更大尺寸单晶升级，满足高校、科研院所、企业客户对氧化镓晶体生长的科研、生产等各项需求。（周珂 张琼 孔晓睿）